佛山市南海区罗村艾特迈真空机械厂

产品特点: 利用真空状态下弧光放电原理的离子镀膜技术，是率先发展起来的真空镀膜方式，具有沉积速率高、结合牢固、设备运行稳定等优点，我们在传统多弧的基础上，对靶结构、磁铁、冷却等进行了严格的改

产品特点:   采用频率为数十千赫兹的中频电源，配备经过严格磁路设计的孪生靶（对靶），可以避免“打火”、“阳极消失”、&l

产品特点:   采用电阻蒸发或电子枪蒸发方式，是镀制多层光学薄膜（如彩色膜、增透膜、反光膜、金属膜、导电膜等）的主要机器。广泛应用在相机镜头、手机镜片、光学片等各个领域。

产品特点: 该机型是在电阻蒸发镀膜机的基础上，配备磁控圆柱和磁控平面靶。设备即可以镀铝、硬铬等金属膜层，也可以镀氟化镁等非金属膜。配备的磁控靶，可以进行离子溅射镀铝、铜、不锈钢、贵金属等，可

产品特点:   采用频率为数十千赫兹的中频电源，配备经过严格磁路设计的孪生靶（对靶），可以避免“打火”、“阳极消失”、&l

产品特点:   该机型在多弧离子镀膜机的基础上配置圆柱靶或平面磁控靶，设备具备离子镀的高离化率、高沉积速度的特点，同时也具备磁控溅射低温、稳定的优点，适合镀各种复合膜层，

产品特点:   采用电阻式蒸发原理，把被蒸发物质加热到一定温度，在高真空状态下，蒸汽的原子和分子从蒸发源表面逸出，直接到达被镀材料表面成膜的方式。具有沉积速度快、温度低的

产品特点:   该机型在多弧离子镀膜机的基础上配置圆柱靶或平面磁控靶，设备具备离子镀的高离化率、高沉积速度的特点，同时也具备磁控溅射低温、稳定的优点，适合镀各种复合膜层，

产品特点: 该机型是在电阻蒸发镀膜机的基础上，配备磁控圆柱和磁控平面靶。设备即可以镀铝、硬铬等金属膜层，也可以镀氟化镁等非金属膜。配备的磁控靶，可以进行离子溅射镀铝、铜、不锈钢、贵金属等，可

产品特点:   该机型在多弧离子镀膜机的基础上配置圆柱靶或平面磁控靶，设备具备离子镀的高离化率、高沉积速度的特点，同时也具备磁控溅射低温、稳定的优点，适合镀各种复合膜层，