主营:光学镀膜材料;高纯膜料;难熔材料及制品;高纯金属;光电子材料
Si-Al靶材,Si含量从50%~90%范围内可调控。材料组织均匀性好、致密度高,晶粒细小。技术参数:采用采用粉末冶金的方法制成,纯度≥99.9%,相对密度大于99%,尺寸根据客户要求定。主要用