北京泰科诺科技有限公司

 功能：该系列真空镀膜设备属生产型设备，主要用于在卫浴洁具、五金饰品及logo标牌等表面镀膜。 设备应用特点： 1、适合于各种中小尺寸工件的镀膜应用； 2、满足

该设备采用低温等离子体技术，为化学气相沉积反应提供能量，大大降低了传统热CVD的反应温度，使CVD在热稳定性差的基底表面上进行沉 积成为可能，反应温度的降低可以有效抑制半导体器件制作过程中的

微颗粒表面磁控溅射镀膜设备运用成熟的磁控溅射技术，主要用来在微米级粉体颗粒表面沉积各种纳米级单层及多层的导电膜、半导体膜、绝缘膜以及镍、钴磁性膜等。

原子层沉积（AtomicLayerDeposition，ALD），也称为原子层化学气相沉积（AtomicLayerChemicalVaporDeposition，ALCVD）。原子层沉积是在一个加热反