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 功能：该系列真空镀膜设备属生产型设备，主要用于在卫浴洁具、五金饰品及logo标牌等表面镀膜。 设备应用特点： 1、适合于各种中小尺寸工件的镀膜应用； 2、满足

该设备是利用化学气相沉积技术，采用准无油真空系统，系统极限真空高；石英管生长室清洁无污染；多路气体控制合理；加热温度高控温准确且均匀；系统保护功能；可制备用于光电子、微波器件等高纯膜。适合于各单位实验

该设备采用低温等离子体技术，为化学气相沉积反应提供能量，大大降低了传统热CVD的反应温度，使CVD在热稳定性差的基底表面上进行沉 积成为可能，反应温度的降低可以有效抑制半导体器件制作过程中的

微颗粒表面磁控溅射镀膜设备运用成熟的磁控溅射技术，主要用来在微米级粉体颗粒表面沉积各种纳米级单层及多层的导电膜、半导体膜、绝缘膜以及镍、钴磁性膜等。

原子层沉积（AtomicLayerDeposition，ALD），也称为原子层化学气相沉积（AtomicLayerChemicalVaporDeposition，ALCVD）。原子层沉积是在一个加热反

特点1.自动工艺配方表，灵活方便的手动调节。2.工艺配方可U盘导入、导出，保证数据安全。3.下游流量控制，确保气体组分及比例稳定。4.完善的安全控制，通过互锁及冗余控制，保证系统安全。5.所有运行参数