主营:军用微电子技术;集成电路;半导体集成电路;薄膜混合集成电路;厚膜混合集成电路;MCM多芯片组件;LTCC低温共烧陶瓷
半导体集成电路光刻技术 常规光刻技术是采用波长为2000~4500埃的紫外光作为图像信息载体,以光致抗蚀剂为中间(图像记录)媒介实现图形的变换、转移和处理,最终把图像信息传递到晶片(主要指硅